檢索結果:共9筆資料 檢索策略: "王乃堅".ccommittee (精準) and cadvisor.raw="方劭云"
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定向自組裝多圖案混合式微影(directed selfassembly technology with multiple patterning lithography)非常適用於製造 10 奈米以下…
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定向自組裝 (directed self-assembly technology) 的技術在10 奈米以 下的導通孔 (contact/via) 的製造上展現了其優勢,為了讓導通孔有 足夠的重疊精度…
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自動對準雙圖案微影技術(self-aligned double patterning lithography)是目前20奈米以下的主要微影技術之一,在微影技術的發展下,尺寸微小化使得雙圖案微影技術的…
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在現代的科技蓬勃發展下,半導體製造進入了次10 奈米的技術節點,關鍵尺寸的微小化使得下一世代微影技術被迫切地需要,其中,團鏈共聚物定向自組裝微影技術已經證明其用於製作導通孔的可能性。除此之外,後佈局…
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電路時序延遲逐漸成為決定電路效能的重要因素,時鐘樹的設計也日益重要。樹狀結構時鐘樹(tree-based clock network)由於擁有容易實現與分析的優勢,因此特別適合用於規模較小之晶片實作…
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隨著先進製程快速發展下,佈局圖案(Layout pattern)更容易受到製程變異(Process variation)的影響,其中有些佈局圖案雖然能通過設計法則驗證(Design rule che…
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多電子束微影 (Multiple E-beam Lithography) 作為最有希望的次世代微影技術(Next Generation Lithography),可用來解決傳統電子束的低產量問題。在…
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由於下一代微影技術的延遲,對於現今10 奈米的製程節點,多 圖樣微影技術仍然是突破微影極限的主要方案。在本篇論文中,我們 提出一個保證連通層可分解性之三圖樣微影感知的細部繞線器。在此 研究中,繞線器…
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在數位積體電路的設計流程結束後,工程變更命令(Engineering Change Order)可能造成某些線路開路,如電源線或接地線。由於存在著大量的障礙物,因此解決這些開路線路是一個極具挑戰性的…